滤线栅切割效应

注解

滤线栅切割效应（grid decentering effect）是指滤线栅铅条对带有信息信号的X线原射线的额外吸收作用。

栅切割效应的产生有以下4种情况：

（1）聚焦栅倒置（upside-down grid）：照片中线部分呈现出密度，其余部分则无密度影像。

（2）侧向倾斜或侧向偏离栅焦距（off-level grid or off-center grid）：侧向倾斜栅焦距有两种情况。一是摄影距离与栅焦距一致，但是X线管焦点向一侧偏离了聚焦线（或聚焦点）；二是摄影距离与栅焦距一致，而栅平面不与X线中心线束垂直，向一侧倾斜了一定角度。此时，栅铅条切割同等量的原射线，因而产生一个密度均匀降低的影像。一般从照片影像上很难辨认出来，误认为是X线摄影条件不足所致。

（3）上、下偏离栅焦距（off-focus grid）：当X线管焦点对准栅中心，但其位于栅聚焦线上或下时，也会产生切割效应。X线管焦点在聚焦线（或点）之上时，它与栅平面的距离，称为远栅焦距离；X线管焦点在聚焦线（或点）之下时，它与栅平面的距离，称为近栅焦距离。若偏离距离相同时，近栅焦距离的切割效应造成的原射线的损失率大于远栅焦距离。

（4）双重偏离：侧向偏离及上、下偏离栅焦距同时发生，这是摄影中常遇到的一种情况。双重偏离可造成胶片不均匀照射，照片影像密度一边高一边低。

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