舌活动部癌高剂量率组织间插植近距离放射治疗
舌活动部癌高剂量率组织间插植近距离放射治疗的适应证
2.晚期舌癌姑息治疗以外照射为主，组织间插植近距离治疗作为补充治疗手段之一。
操作名称
舌活动部癌高剂量率组织间插植近距离放射治疗
舌活动部癌高剂量率组织间插植近距离放射治疗的禁忌证
1.对局麻药物过敏者。
2.恶病质。
3.有严重心肺疾病或伴脑血管病史者。
5.有精神疾病史。
7.高血压患者慎用。
8.糖尿病患者慎用。
准备
1.治疗室的准备
（1）手术应按无菌操作进行，并应准备急救药品、氧气和吸引器等，以备需要时用。
（2）检查放射源的强度及设备运行状态。
2.患者的准备
（1）须患者或其家属签字认可，签署“组织间插植近距离放射治疗知情同意书”。
（2）治疗当天早晨应禁食、禁水，以免在组织间插植操作时呕吐物污染手术野或吸入气管，术中静脉输液维持。
（3）手术前须行面颈部备皮，剃除毛发（眼裂以下至锁骨上区）。
（4）在治疗前给患者使用相应药物，令患者镇静和减少口腔分泌物。
方法
1.根据病变范围、大小，治疗计划系统优化后，决定与此相配的各种治疗参数。
2.患者仰卧，头取过伸位，常规消毒铺巾。
3.充分麻醉手术区。
4.徒手插植技术 导引针从下颌下或颏下进针至舌背，将软管施源器导入，在施源器两端分别穿入锁片使之固定。
5.模板插植技术 将适合患者的模板放置于下颌下，用金属施源器通过模板上的孔，由下颌下向舌背插植。
6.如果肿瘤较小浅表，且部位在舌的前1/3处，也可经口腔插植。
7.在模拟机下采用等中心技术摄正、侧位（正交法）定位片（采用模板技术时除外）。
8.在定位片上根据肿瘤情况设置源驻留位置、参考剂量并做几何优化。
9.根据治疗计划的设计，按施源器的编号分别连接相应的施源器通道并锁定，工作人员离开治疗室，开始治疗。有条件时，整个治疗过程应在电视的监控下进行。
10.治疗结束后，首先将施源器与治疗机脱离。用乙醇消毒下颌下和颏下施源器周围的皮肤，除去固定用锁片（经下颌下插植适用）。
11.施源器经口腔内拔出，即用纱布压迫伤口，在无活动性出血时包扎伤口。
12.送患者返回病房或门诊留观1d，并同时使用抗生素。
注意事项
1.治疗前应检查出、凝血时间，如有凝血功能障碍则不宜行组织间插植治疗。
3.在手术中，应注意防止小型异物（如固定用销片）脱落，以免引起消化道或气管异物。
4.若插植的施源器较多时，应使用不透X线的标记并标明序号，以便在摄定位片和做治疗计划时能区分每一根施源器的位置。
5.可能出现的并发症
（1）麻醉意外。
（2）出血。
（3）伤口感染。
（4）插植区域软组织坏死。
（5）插植区域软组织纤维化。
（6）窒息。
